半導(dǎo)體工藝中的刻蝕劑。
氟化氫銨可以用作半導(dǎo)體工藝中的刻蝕劑,可以去除硅片表面的氧化層和多晶硅表面,從而制造出更為精細(xì)和復(fù)雜的半導(dǎo)體芯片。
生產(chǎn)氟化物化合物。
氟化氫銨可以用于制取氟化物化合物,工業(yè)級(jí)氟化氫銨,如光電子材料、催化劑、聚合物等。
金屬表面處理和腐蝕保護(hù)。
將氟化氫銨加入水中,工業(yè)電鍍氟化氫銨,攪拌均勻形成氟化氫銨水溶液,通過(guò)浸泡或噴涂等方式涂抹到金屬表面,待處理時(shí)間根據(jù)金屬種類(lèi)和表面狀態(tài)而定。處理完后一定要沖洗干凈并使用防腐劑防止再次氧化和腐蝕。
氟化氫銨是一種無(wú)機(jī)物,呈白色或無(wú)色透明正交晶體,產(chǎn)品呈片狀,略帶酸味。相對(duì)密度為1.52,熔點(diǎn)為124.6℃,沸點(diǎn)為240℃。氟化氫銨是一種腐蝕性化學(xué)物質(zhì),當(dāng)暴露在濕氣和水中時(shí),會(huì)分解有毒的氟化物、氮氧化物和氨。易溶于水是弱酸,能溶解玻璃,微溶于酒精,易溶于冷水。水溶液呈強(qiáng)酸性,在較高溫度下會(huì)升華,會(huì)腐蝕玻璃和皮膚。操作人員應(yīng)穿戴防護(hù)設(shè)備。如不慎接觸皮膚,請(qǐng)立即用大量清水沖洗,然后將浸入70%冰鎮(zhèn)乙醇或冷硫酸鎂溶液中30分鐘,再涂抹氧化鎂甘油軟膏。
半導(dǎo)體工藝中的刻蝕劑。
將氟化氫銨與其他化學(xué)物質(zhì)混合后形成刻蝕劑,工業(yè)制氟化氫銨,涂抹在硅片表面,工業(yè)氟化氫銨,通過(guò)化學(xué)反應(yīng)將硅片表面的氧化層和多晶硅表面刻蝕,得到所需要的形狀和結(jié)構(gòu)。
生產(chǎn)氟化物化合物。
將氟化氫銨逐漸加入其它物質(zhì)中,通過(guò)反應(yīng)得到所需要的化合物。需要注意的是,處理過(guò)程中必須嚴(yán)格控制反應(yīng)溫度和反應(yīng)時(shí)間,以免出現(xiàn)反應(yīng)異常。
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